ITO废靶材回收

ITO靶材是什么材料？ITO靶材是溅射靶材中的一种，全称为氧化铟锡靶材，是氧化铟和氧化锡的混合物。在所有其他透明导电氧化物中，氧化铟锡因其卓越的导电性、光学透明度和高稳定性而被广泛选择。在光电子行业，它主要用于覆盖半导体传感器布线，并制造各种光电设备和组件，如液晶显示器、有机发光二极管、等离子显示器和触摸屏。

本文介绍了一种从ITO废靶材中回收ITO粉末的新方法，该方法通过表面清洁和酸洗、热应力破碎处理、环辊磨破碎处理、气流破碎处理和振动球磨处理，将ITO废靶材加工成粒径为100～500nm的ITO纳米粉末，无需经过大量的金属分离提纯的环节，过程简单，经济环保；该方法在制备ITO粉末的过程中无需将ITO靶材气雾化，降低了能量消耗和设备成本，更加节能环保。该方法回收得到的ITO粉末纯度很高，可达99.99％，同时也大大提高了废靶的回收率，废靶的回收率大于98％。该方法将ITO废靶材加工成可直接用于ITO靶材制备的ITO纳米粉末，适合大规模生产。

1.采用热应力破碎处理，利用ITO靶材的热膨胀系数和水的体积膨胀系数的差异，通过加热保温和骤冷的方式，使ITO靶材产生热应力，从而破碎成小颗粒，避免了传统的机械破碎的能耗和磨损。

2.采用环辊磨破碎处理，利用立式环辊磨机的高效破碎性能，将ITO颗粒进一步细化成粉末，同时通过酸洗去除破碎过程中产生的杂质，提高了ITO粉末的纯度。

3.采用气流破碎处理，利用冲击式气流粉碎机的高速气流冲击力，将ITO粉末进一步细化成纳米级，同时通过筛选去除粒径过大或过小的粉末，提高了ITO粉末的均匀性。

4.采用振动球磨处理，利用振动球磨机的高频振动和ITO磨球的高硬度，将ITO粉末进一步均匀化和球化，提高了ITO粉末的流动性和成型性。